磁控溅射镀膜靶材:
金属锆溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材 ,氮化物陶瓷溅射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材 ,硅化物陶瓷溅射靶材 ,硫化物陶瓷溅射靶材 ,碲化物陶瓷溅射靶材 ,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),砷化铅靶材(PbAs),砷化铟靶材(InAs)。
高纯高密度溅射靶材有:
溅射靶材(纯度:99.9%-99.999%)
金属锆、高纯锆、海绵锆,碘化锆、结晶锆、锆锭、锆篮、锆靶、锆屑、锆边角、锆棒、锆板、锆管、锆钢反应釜罐,锆盘管,锆冷却管,锆丝、锆箔、锆带、锆舟、锆杯、锆螺丝、锆包铜,锆铁,铝锆中间合金等。
3)结晶铪,高纯铪,海绵铪,铪丝、铪靶、铪棒、铪下角料、铪锭、铪屑等。4)金属钽,钽板,钽丝,钽棒,钽靶等。
5)金属铌,铌锭,铌板,铌棒,铌板,铌粉等。
BCC(BusinessCommunicationsCompany,商业咨询公司)较新的统计报告指出,**靶材市场将以8.8%的年平均增长率(AAGR)在今后的5年内持续增长,估计销售额将从1999年的7.2亿美元增加到2004年的11亿美元。靶材是一种具有高附加价值的特种电子材料,主要使用在微电子,显示器,存储器以及光学镀膜等产业上,用以溅射用于尖端技术的各种薄膜材料。BCC的报告显示:**的上述产业在1999年使用了2.88百万公斤靶材。换算为面积,则溅射了363百万平方米的薄膜。而若以单位靶材来计算,**在1999年则大约使用了37400单位的靶材。这里所要指出的是,随着应用产业的不同,靶材的形状与大小也有所差异,其直径从15Gm到3m都有,而上述的统计资料,则是平均化后的结果。 [1]
主要应用
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溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
分类
根据形状可分为方靶,圆靶,异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、**导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等
根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材
锆板,锆圆靶,锆管靶,锆靶,钛靶,铬靶