山南热门铪靶

都膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
中文名
靶材
2Mg+HfCl4─→2MgCl2+Hf
德博尔－阿克尔法即碘化法，用此法提纯海绵状铪，得到可延展的金属铪。?[1]?
5.铪的冶炼，与锆基本相同：
第一步为矿石的分解，有三种方法：锆石氯化得(Zr，Hf)Cl。锆石的碱熔。锆石与NaOH在600左右熔融，有90%以上的(Zr，Hf)O转变为Na(Zr，Hf)O，其中的SiO变成NaSiO，用水溶除去。Na(Zr，Hf)O用HNO溶解后可作锆铪分离的原液，但因含有SiO胶体，给溶剂萃取分离造成困难。用KSiF烧结，水浸后得K(Zr，Hf)F溶液。溶液可以通过分步结晶分离锆铪；
第二步为锆铪分离，可用盐酸-MIBK(甲基异丁基酮)系统和HNO-TBP(磷酸三丁酯)系统的溶剂萃取分离方法。利用高压下(**20大气压)HfCl和ZrCl熔体蒸气压的差异而进行多级分馏的技术早有研究，可省去二次氯化过程，降低成本。但由于(Zr，Hf)Cl和HCl的腐蚀问题，既不易找到合适的分馏柱材质，又会使ZrCl和HfCl质量降低，增加提纯费用，70年代仍停留在中间厂试验阶段；

磁控溅射镀膜靶材：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材?，氮化物陶瓷溅射靶材?，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材?，硅化物陶瓷溅射靶材?，硫化物陶瓷溅射靶材?，碲化物陶瓷溅射靶材?，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)，砷化铅靶材(PbAs)，砷化铟靶材(InAs)。
高纯高密度溅射靶材有：
溅射靶材（纯度：99.9%-99.999%）
铪靶··锆靶
化学性质
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铪的化学性质与锆十分相似，具有良好的抗腐蚀性能，不易受一般酸碱水溶液的侵蚀；易溶于氢氟酸而形成氟合配合物。高温下，铪也可以与氧、氮等气体直接化合，形成氧化物和氮化物。
铪在化合物中常呈?+4价。主要的化合物是氧化铪HfO2。氧化铪有三种不同的变体：将铪的硫酸盐和氯氧化物持续煅烧所得的氧化铪是单斜变体；在400℃左右加热铪的氢氧化物所得的氧化铪是四方变体；若在1000℃以上煅烧，可得立方变体。另一个化合物是四氯化铪，它是制备金属铪的原料，可由氯气作用于氧化铪和碳的混合物制取。四氯化铪与水接触，立即水解成十分稳定的HfO(4H2O)2+离子。HfO2+离子存在于铪的许多化合物中，在盐酸酸化的四氯化铪溶液中可结晶出针状的水合氯氧化铪HfOCl2·8H2O晶体。
4价铪还容易与氟化物形成组成为?K2HfF6、K3HfF7、(NH4)2HfF6、(NH4)3HfF7的配合物。这些配合物曾用于锆、铪分离。[1]?

1.可由镁还原四氯化铪或热分解四碘化铪制取。也可以HfCl4和K2HfF6为原料。在NaCl-KCl-HfCl4或K2HfF6熔体中电解制取，其工艺过程与锆的电解制取相近。
2.铪多与锆共存，没有单独存在的铪原料。铪的制造原料是在制造锆的工艺流程中分离出来的粗氧化铪。用离子交换树脂的方法提取氧化铪，随后利用与锆相同的方法从这种氧化铪中制取金属铪。
3.可由四氯化铪（HfCl4）与钠共热经还原而制得。?[20-21]?
4.较早分离锆、铪的方法是含氟络盐的分级结晶和磷酸盐的分级沉淀。这些方法操作麻烦，**于实验室使用。陆续出现了分级蒸馏、溶剂萃取、离子交换和分级吸附等分离锆、铪的新技术，其中以溶剂萃取法较有实用价值。常用的两种分离体系是硫氰酸盐－异己酮体系和磷酸三丁酯－硝酸体系。以上方法所得产品都是氢氧化铪，通过煅烧可得纯的氧化铪。高纯度的铪可以用离子交换法取得。
工业上，金属铪的生产常常并用克罗尔法和德博尔-阿克尔法。克罗尔法是用金属镁还原四氯化铪：
第三步为HfO的二次氯化以制得还原用粗HfCl；
第四步为HfCl的提纯和加镁还原。该过程与ZrCl的提纯和还原相同，所得半成品为粗海绵铪；
第五步为真空蒸馏粗海绵铪，以除去MgCl和回收多余的金属镁，所得成品为海绵金属铪。如还原剂不用镁而用钠，则第五步改为水浸

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